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普樂斯15年專注等離子清洗機研制低溫等離子表面處理系統(tǒng)方案解決商

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普樂斯自主的半導體專用等離子清洗機有何發(fā)展?選擇普樂斯靠譜嗎?

返回列表 來源:普樂斯 瀏覽: 發(fā)布日期:2020-12-17 14:24【
文章導讀:半導體行業(yè)科學技術水平含量很高,近年來更是屢屢提及,大環(huán)境的變化,半導體行業(yè)技術與設備的獨立自主化發(fā)展更是迫切提上日程,國產(chǎn)等離子清洗機便是國產(chǎn)半導體設備的一種,接下來將為大家簡單介紹普樂斯的國產(chǎn)等離子清洗機設備是在半導體行業(yè)有哪些發(fā)展,是如何“摸爬滾打”的。
       半導體行業(yè)科學技術水平含量很高,近年來更是屢屢提及,大環(huán)境的變化,半導體行業(yè)技術與設備的獨立自主化發(fā)展更是迫切提上日程,國產(chǎn)等離子清洗機便是國產(chǎn)半導體設備的一種,接下來將為大家簡單介紹普樂斯的國產(chǎn)等離子清洗機設備是在半導體行業(yè)有哪些發(fā)展,是如何“摸爬滾打”的。
【普樂斯】等離子清洗機設備
一、普樂斯國產(chǎn)等離子清洗機設備起步時艱難與驚喜
       普樂斯自成立始便將目光放在包括半導體制造在內的重點領域,成立次年便與國內知名晶圓封裝企業(yè)合作?,F(xiàn)在還記得,那時國產(chǎn)技術積累并不成熟、品牌認可度不足、使用國產(chǎn)半導體設備存在一定風險,普樂斯的國產(chǎn)等離子清洗機設備僅能參與去除晶圓表面污染物的晶圓清洗環(huán)節(jié)中去,從此開啟了普樂斯的半導體征程,開端是艱辛但驚喜的。
二、普樂斯國產(chǎn)等離子清洗機設備穩(wěn)健發(fā)展、再獲客戶信任
       進口等離子清洗機設備費用高、服務響應慢,再結合普樂斯國產(chǎn)等離子清洗機設備在多家客戶實地運行的表現(xiàn),普樂斯得以在老客戶擴產(chǎn)時再次使用普樂斯的國產(chǎn)等離子清洗機,涉及到更多的生產(chǎn)工藝中,從前段的硅片清洗到后段的光刻膠殘留去除,普樂斯國產(chǎn)等離子清洗機開始參與到芯片制造的諸多流程,國產(chǎn)半導體設備認可度逐漸提升,普樂斯也在國產(chǎn)等離子清洗機的生產(chǎn)研發(fā)進程中,將步伐逐漸走實走穩(wěn)。
【普樂斯】等離子清洗機可用于晶圓處理
三、半導體行業(yè)的深耕發(fā)展及更多行業(yè)認可的聲音
       普樂斯之后又與更多芯片制造企業(yè)達成合作。國產(chǎn)等離子表面處理設備被應用到諸多半導體分立器件、電力電子元器件等的生產(chǎn)中,從先前的基礎晶圓清洗,到晶圓表面較厚光刻膠的去除中,都逐漸使用了普樂斯的等離子處理設備,客戶的反饋也從剛接觸時表現(xiàn)的不信任,到對普樂斯等離子表面處理設備效果的贊揚。
四、關于普樂斯品牌國產(chǎn)等離子清洗機的未來發(fā)展
       關于未來發(fā)展,普樂斯會在鞏固和完善當前工藝技術的同時,聚焦RFMEMS芯片殘余的光刻膠去除等行業(yè)熱點難點問題,提供相應的等離子表面處理技術與服務,為國產(chǎn)等離子清洗機補齊短板、助力“中國芯”產(chǎn)業(yè)發(fā)展。
       普樂斯從2011年開始涉足半導體行業(yè)至今已有9年,專注研制等離子清洗機,等離子體清洗機,等離子清洗設備,常壓大氣和低壓真空型低溫等離子表面處理設備,在光刻膠去除、打線即W/B前清洗和塑封即Molding前活化等工藝方面積累了較為豐富的等離子表面處理經(jīng)驗,合作客戶接近20家,我們正努力成為半導體封裝領域的等離子表面處理工藝解決方案服務商。是行業(yè)內值得信賴的等離子清洗機廠家。等離子表面處理過的樣品包括:硅晶圓、玻璃基板、陶瓷基板、IC載板、銅引線框架等。如果您想要了解更多關于產(chǎn)品的詳細內容或在設備使用中有疑問,歡迎點擊普樂斯的在線客服進行咨詢,或者直接撥打全國統(tǒng)一服務熱線400-816-9009,普樂斯恭候您的來電! 

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    1)能有效去除大于3μm的顆粒
    2)不需要高純水和化學藥劑等,同時不需要后續(xù)烘干工藝
    3)設備維護簡單,只需進行簡單的清洗和更換
    4)沿噴嘴線性均衡的超聲波使得工件橫向清洗性能保持一致
    5)非接觸式的清洗方式避免損壞工
    6)閉環(huán)系統(tǒng)不會破壞生產(chǎn)車間(潔凈室)的氣流平衡

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    ‌實驗室等離子清洗機‌是一種利用等離子體技術進行表面處理的設備,廣泛應用于科研和工業(yè)制造領域。

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    產(chǎn)品名稱:真空等離子清洗機 等離子表面處理機 表面處理改性PM-20LN
    真空等離子清洗機作為一種高效、無介質的表面處理設備,具有廣泛的應用前景。其工作原理基于等離子體在真空環(huán)境中產(chǎn)生的化學反應和物理效應,具有高效清洗、無介質清洗、可選擇性清洗、表面改性和自動化操作等優(yōu)勢。

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    產(chǎn)品名稱:實驗型等離子清洗機 小型真空等離子處理設備PLAUX-PR-10L

    ‌高效徹底‌:能夠深入微納米級孔隙中,徹底清除難以觸及的污染物。

    ‌環(huán)保節(jié)能‌:無需使用化學溶劑,減少廢水廢氣排放,符合綠色生產(chǎn)要求,且能耗低。

    ‌廣泛適用‌:適用于多種材料表面,包括金屬、陶瓷、玻璃、塑料等,不會對材料性能產(chǎn)生負面影響。

    ‌工藝可控‌:通過調整工作氣體種類、壓力、功率等參數(shù),可精確控制清洗過程‌。


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