普樂斯10年專注等離子清洗機(jī)研制低溫等離子表面處理系統(tǒng)方案解決商
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在真空狀態(tài)下,壓力越來越小,分子間間距越來越大,分子間力越來越小,利用高頻源產(chǎn)生的高壓交變電場將氧、氬、氫、四氟化碳等工藝氣體震蕩成具有高反應(yīng)活性或高能量的等離子體,然后與有機(jī)污染物及微顆粒污染物反應(yīng)或碰撞形成揮發(fā)性物質(zhì),然后由工作氣體流及真空泵將這些揮發(fā)性物質(zhì)清除出去,從而達(dá)到表面清潔、活化等目的。
如圖所示:
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