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普樂(lè)斯15年專注等離子清洗機(jī)研制低溫等離子表面處理系統(tǒng)方案解決商

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普樂(lè)斯電子5月再獲2項(xiàng)等離子自動(dòng)清洗設(shè)備實(shí)用新型專利

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文章導(dǎo)讀:2021年5月,昆山普樂(lè)斯電子科技有限公司(以下簡(jiǎn)稱普樂(lè)斯電子)申報(bào)的2項(xiàng)實(shí)用新型專利證書(shū)獲得通過(guò),專利產(chǎn)品為“一種等離子清洗機(jī)雙項(xiàng)推頭” “一種等離子清洗機(jī)壓蓋”。此專利為普樂(lè)斯內(nèi)部資深技術(shù)人員與設(shè)計(jì)人員共同研發(fā)推出,由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局審核批準(zhǔn)。自此,普樂(lè)斯電子等離子清洗技術(shù)向半導(dǎo)體自動(dòng)化領(lǐng)域又邁出新的一步。
       2021年5月,昆山普樂(lè)斯電子科技有限公司(以下簡(jiǎn)稱普樂(lè)斯電子)申報(bào)的2項(xiàng)實(shí)用新型專利證書(shū)獲得通過(guò),專利產(chǎn)品為“一種等離子清洗機(jī)雙項(xiàng)推頭” “一種等離子清洗機(jī)壓蓋”。此專利為普樂(lè)斯內(nèi)部資深技術(shù)人員與設(shè)計(jì)人員共同研發(fā)推出,由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局審核批準(zhǔn)。自此,普樂(lè)斯電子等離子清洗技術(shù)向半導(dǎo)體自動(dòng)化領(lǐng)域又邁出新的一步。

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       多年來(lái),普樂(lè)斯電子不斷加大科技研發(fā)投入,緊跟科技發(fā)展的腳步從未停歇,一直不斷努力研發(fā)新技術(shù)。因半導(dǎo)體行業(yè)的特殊性,客戶對(duì)等離子清洗設(shè)備的智能化和自動(dòng)化提出了更高的要求。普樂(lè)斯電子傾聽(tīng)市場(chǎng)的需求,成功研制的等離子自動(dòng)清洗設(shè)備不僅可以節(jié)省企業(yè)人工成本,提高效率,更好去除芯片表面氧化物與微小污染物,使內(nèi)部更加潔凈,細(xì)小導(dǎo)電絲與芯片緊密貼合,導(dǎo)電效果更好。經(jīng)驗(yàn)證,此專利設(shè)備在實(shí)際使用中得到了半導(dǎo)體行業(yè)客戶一致認(rèn)可和青睞。

 
      普樂(lè)斯是一家專業(yè)從事等離子體清洗機(jī)的國(guó)家高新技術(shù)公司,扎根昆山12年來(lái),企業(yè)致力于整合等離子體技術(shù)、智能設(shè)備研發(fā)制造、半導(dǎo)體設(shè)備研發(fā)制造等領(lǐng)域,成功開(kāi)發(fā)了多個(gè)智能自動(dòng)化設(shè)備,共獲得30多項(xiàng)專利。未來(lái),普樂(lè)斯將繼續(xù)立足于走科技創(chuàng)新之路,以科技為先導(dǎo),不斷開(kāi)發(fā)差異化、多元化、創(chuàng)新型的等離子自動(dòng)清洗設(shè)備。高度關(guān)注高科技領(lǐng)域的行業(yè)發(fā)展與需要,鉆研出更加精尖與符合市場(chǎng)需求的等離子技術(shù),為國(guó)家高科技發(fā)展盡一份力。

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    1)能有效去除大于3μm的顆粒
    2)不需要高純水和化學(xué)藥劑等,同時(shí)不需要后續(xù)烘干工藝
    3)設(shè)備維護(hù)簡(jiǎn)單,只需進(jìn)行簡(jiǎn)單的清洗和更換
    4)沿噴嘴線性均衡的超聲波使得工件橫向清洗性能保持一致
    5)非接觸式的清洗方式避免損壞工
    6)閉環(huán)系統(tǒng)不會(huì)破壞生產(chǎn)車間(潔凈室)的氣流平衡

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    ‌高效徹底‌:能夠深入微納米級(jí)孔隙中,徹底清除難以觸及的污染物。

    ‌環(huán)保節(jié)能‌:無(wú)需使用化學(xué)溶劑,減少?gòu)U水廢氣排放,符合綠色生產(chǎn)要求,且能耗低。

    ‌廣泛適用‌:適用于多種材料表面,包括金屬、陶瓷、玻璃、塑料等,不會(huì)對(duì)材料性能產(chǎn)生負(fù)面影響。

    ‌工藝可控‌:通過(guò)調(diào)整工作氣體種類、壓力、功率等參數(shù),可精確控制清洗過(guò)程‌。


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