準許美企與華為合作制定5G標準，普樂斯等離子清洗機

來源：普樂斯瀏覽：次發(fā)布日期：2020-06-16 09:17【大中小】

文章導(dǎo)讀：根據(jù)國外媒體報道，美國商務(wù)部和其他政府機構(gòu)在當?shù)貢r間周一證實了，美國將修改針對與華為有業(yè)務(wù)往來的美國公司禁令，準許這些美國企業(yè)與華為共同制定5G網(wǎng)絡(luò)標準，普樂斯等離子清洗機援引網(wǎng)易科技報道。

美國商務(wù)部長威爾伯·羅斯在聲明中證實，該機構(gòu)正在采取行動。并表示：“美國不會舍棄在全世界創(chuàng)新方面的領(lǐng)導(dǎo)地位，商務(wù)部將致力于通過鼓勵美國工業(yè)界全面參與并倡導(dǎo)美國技術(shù)成為國ji標準，來維護美國的國家安全和外交政策利益。”普樂斯等離子清洗機援引網(wǎng)易科技報道。

華為發(fā)言人沒有馬上就此置評。2019年，美國以國家安全為由，將華為納入商務(wù)部所謂的“實體名單”，限制向華為出售美國商品和技術(shù)。

行業(yè)專家和美國政府官員表示，規(guī)則的改變不應(yīng)被視為美國打壓華為的決心有所減弱的跡象，只是因為華為被納入“實體名單”使美國在標準設(shè)置方面處在弱勢。在標準的制定中，通常是由公司制定規(guī)范，并準許來自不同公司的設(shè)備一同運行。

由于美國公司不確定他們被允許分享哪些技術(shù)或信息，有些公司的工程師降低了參與，因此就給到華為更大的話語權(quán)。知情人士稱，美國商務(wù)部的這項修正案只是為了保證美國公司“全面參與”自愿標準制定機構(gòu)的工作，并答復(fù)了美國公司和立法者的擔憂。

本文來源：半導(dǎo)體行業(yè)觀察
如有侵權(quán)請聯(lián)系管理員，我們將會進行刪除

普樂斯從2011年開始涉足半導(dǎo)體行業(yè)至今已有9年，專注研制等離子清洗機，等離子體清洗機，等離子清洗設(shè)備，常壓大氣和低壓真空型低溫等離子表面處理機，在光刻膠去除、打線即W/B前清洗和塑封即Molding前活化等工藝方面積累了較為豐富的等離子表面處理經(jīng)驗，合作客戶接近20家，我們正努力成為半導(dǎo)體封裝領(lǐng)域的等離子表面處理工藝解決方案服務(wù)商。是行業(yè)內(nèi)值得信賴的等離子清洗機廠家。等離子表面處理過的樣品包括：硅晶圓、玻璃基板、陶瓷基板、IC載板、銅引線框架等。如果您想要了解更多關(guān)于產(chǎn)品的詳細內(nèi)容或在設(shè)備使用中有疑問，歡迎點擊普樂斯的在線客服進行咨詢，或者直接撥打全國統(tǒng)一服務(wù)熱線400-816-9009，普樂斯恭候您的來電！

下一篇：傳騰訊要收購愛奇藝？普樂斯等離子清洗機介紹上一篇：日經(jīng)表示，華為不會輕易被美國打死，普樂斯等離子清洗機

“推薦閱讀”

【本文標簽】：華為 5G 等離子清洗機美商務(wù)部
【責(zé)任編輯】：普樂斯電子版權(quán)所有：http://www.dfjlmt.com轉(zhuǎn)載請注明出處

普樂斯推薦

USC干式超聲波除塵設(shè)備高壓旋風(fēng)除塵PLS-X系列介紹

產(chǎn)品名稱：USC干式超聲波除塵設(shè)備高壓旋風(fēng)除塵PLS-X系列介紹
1）能有效去除大于3μm的顆粒
2）不需要高純水和化學(xué)藥劑等，同時不需要后續(xù)烘干工藝
3）設(shè)備維護簡單，只需進行簡單的清洗和更換
4）沿噴嘴線性均衡的超聲波使得工件橫向清洗性能保持一致
5）非接觸式的清洗方式避免損壞工
6）閉環(huán)系統(tǒng)不會破壞生產(chǎn)車間（潔凈室）的氣流平衡
小型等離子清洗機實驗型等離子清洗機半導(dǎo)體活化刻蝕 pr5L

產(chǎn)品名稱：小型等離子清洗機實驗型等離子清洗機半導(dǎo)體活化刻蝕 pr5L
‌實驗室等離子清洗機‌是一種利用等離子體技術(shù)進行表面處理的設(shè)備，廣泛應(yīng)用于科研和工業(yè)制造領(lǐng)域。
真空等離子清洗機等離子表面處理機表面處理改性PM-20LN

產(chǎn)品名稱：真空等離子清洗機等離子表面處理機表面處理改性PM-20LN
真空等離子清洗機作為一種高效、無介質(zhì)的表面處理設(shè)備，具有廣泛的應(yīng)用前景。其工作原理基于等離子體在真空環(huán)境中產(chǎn)生的化學(xué)反應(yīng)和物理效應(yīng)，具有高效清洗、無介質(zhì)清洗、可選擇性清洗、表面改性和自動化操作等優(yōu)勢。
實驗型等離子清洗機小型真空等離子處理設(shè)備PLAUX-PR-10L

產(chǎn)品名稱：實驗型等離子清洗機小型真空等離子處理設(shè)備PLAUX-PR-10L

‌高效徹底‌：能夠深入微納米級孔隙中，徹底清除難以觸及的污染物。

‌環(huán)保節(jié)能‌：無需使用化學(xué)溶劑，減少廢水廢氣排放，符合綠色生產(chǎn)要求，且能耗低。

‌廣泛適用‌：適用于多種材料表面，包括金屬、陶瓷、玻璃、塑料等，不會對材料性能產(chǎn)生負面影響。

‌工藝可控‌：通過調(diào)整工作氣體種類、壓力、功率等參數(shù)，可精確控制清洗過程‌。
普樂斯非接觸式除塵設(shè)備 usc干式除塵設(shè)備pls-c系列

產(chǎn)品名稱：普樂斯非接觸式除塵設(shè)備 usc干式除塵設(shè)備pls-c系列
在材料及產(chǎn)品生產(chǎn)、加工、轉(zhuǎn)運的過程中，材料表面由于存在靜電，表面會自帶或吸附微塵，影響成品質(zhì)量。隨著各行業(yè)表面潔凈度要求不斷提高，對微小雜質(zhì)和粉塵的去除愈加重要。非接觸表面清潔有無接觸、設(shè)備小、成本低、耗材少、易實施等優(yōu)點，近年來在各個行業(yè)均有較快的發(fā)展。