普樂(lè)斯等離子清洗設(shè)備行業(yè)觀察，三星規(guī)劃利用3納米工藝制造芯片
文章導(dǎo)讀：普樂(lè)斯等離子清洗設(shè)備行業(yè)觀察，據(jù)韓國(guó)媒體報(bào)導(dǎo)，三星電子的領(lǐng)導(dǎo)人李在镕近日探討了三星將規(guī)劃首fa3nmGAA制程芯片的戰(zhàn)略規(guī)劃。
普樂(lè)斯等離子清洗設(shè)備行業(yè)觀察，該報(bào)導(dǎo)稱(chēng)，李在镕參觀了三星電子地處京畿道華城的半導(dǎo)體研發(fā)中心。這也是李在镕在2020年的第1個(gè)官方行程，在此期間他聽(tīng)取了三星電子3nm制程技術(shù)報(bào)告，并且跟半導(dǎo)體部門(mén)主管探討了全新一代半導(dǎo)體戰(zhàn)略。
據(jù)稱(chēng)，李在镕探討了三星規(guī)劃運(yùn)用正研發(fā)中的新式3nmGAA制程技術(shù)來(lái)制造尖duan晶片的規(guī)劃。GAA被認(rèn)為是當(dāng)前FinFET技術(shù)的升級(jí)版，能確保芯片制造商進(jìn)一步縮小體積。
去年4月三星電子完成了運(yùn)用EUV的5nmFinFET制程技術(shù)的研發(fā)?，F(xiàn)如今該公司正研究下一代制程技術(shù)。三星電子表示，與5nm制程相比，3nmGAA技術(shù)的邏輯面積效率提升了35%以上，功耗減低了50%，性能提升了約30%。
這一舉動(dòng)也照應(yīng)三星之前所講的，將全力進(jìn)攻非DRAM與NANDFlash晶片的半導(dǎo)體市場(chǎng)，在去年，三星宣布了一項(xiàng)折合高達(dá)1118.5億美元的投資計(jì)劃，目的是要讓三星可以成為世界上zui大的半導(dǎo)體芯片制造商。
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普樂(lè)斯電子9年專(zhuān)注研制等離子清洗機(jī)，等離子清洗設(shè)備，等離子處理機(jī)，等離子表面處理設(shè)備，已通過(guò)ISO9001質(zhì)量體系和歐盟CE認(rèn)證，為電子、半導(dǎo)體、汽車(chē)、yi療等領(lǐng)域的客戶(hù)提供清洗，活化，刻蝕，涂覆的等離子表面處理解決方案，是行業(yè)內(nèi)值得信賴(lài)的等離子清洗設(shè)備廠家。如果您想要了解更多關(guān)于產(chǎn)品的詳細(xì)內(nèi)容或在設(shè)備使用中有疑問(wèn)，歡迎點(diǎn)擊普樂(lè)斯的在線客服進(jìn)行咨詢(xún)，或者直接撥打全國(guó)統(tǒng)一服務(wù)熱線400-816-9009，普樂(lè)斯恭候您的來(lái)電！
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