上海微電子國產28nm工藝光刻機交付在即，普樂斯等離子清洗機

來源：普樂斯瀏覽：次發(fā)布日期：2020-06-08 09:42【大中小】

文章導讀：據媒體報道了解，上海微電子披露，其將在2021-2022年交付28nm工藝的國產的沉浸式光刻機，普樂斯等離子清洗機觀察。

“缺芯少屏”一直以來都是對我國半導體行業(yè)的描述，中興殘軀尚留南岸，而今美國屠刀又指華為，更讓國人認識到中國在半導體芯片領域的薄弱，而在芯片制造領域中來說，光刻機必定是其中的關鍵設備。普樂斯等離子清洗機介紹。

據各方媒體報道，上海微電子裝備(集團)股份有限公司披露，其將在2021-2022年交付第yi臺28nm工藝的國產的沉浸式光刻機。雖然，這與當今荷蘭阿斯麥爾公司的5nmEUV光刻機相比還有數代的隔閡，但是差距已經有所縮小，畢竟在此之前國產光刻機還僅停留在90nm。

可以說，這臺即將交付的28nm光刻機對中國的半導體產業(yè)以及上海微電子自身來說都是具有重要意義。因為雖然目前手機芯片即將進入5nm制程工藝，但是在物聯(lián)網、工業(yè)、新型存儲等眾多市場，28nm仍是比較主流的制程工藝節(jié)點。而且從臺積電的2020年一季度的營收占比來看，其28/40/45/65nm的總體占比高達30%。這在一定程度上說明，哪怕中國完全失去芯片進口渠道，中國再上述市場上還是有實現(xiàn)自主化的可能。

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